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IC載板設(shè)備

垂直非接觸顯影線

使用線路板的Non-Contact方式,使基板損傷最小化,提高工程效率,可實現(xiàn)載板高增值及高生產(chǎn)性的設(shè)備。

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垂直非接觸顯影線

產(chǎn)品基本功能

項目

干膜顯影

防焊顯影

基板類型

封裝載板, HDI

尺寸

403*508mm ~ 415*512mm, 508*608mm ~ 520*612mm 

過板能力

4200 pcs/day

厚度

Min 0.03mm(Cu 2/2)  ~  Max 0.8mm 

孔尺寸

BVH (min 50?)  and  PTH( Min 50?)

線路寬度

Min: 5-10?(Dry  Film 15-20?)

特殊說明

針對高精細顯影工程,正常顯影槽后增加二流體顯影,使顯影噴霧粒子降低為3~7um(常規(guī)蝕刻噴霧粒子為50~100um),進一步提高顯影解析度.


防焊顯影流程:

投入→緩沖#1→顯影#1→顯影#2→顯影#3→顯影新液→緩沖#→緩沖#3→熱水洗#1、#2、#3、#4→緩沖#4水洗#1、#2、#3→緩沖#5→風切→熱風→緩沖#6→排出


干膜顯影流程:

投入→緩沖#1→顯影#1→顯影#2→顯影新液→緩沖#→緩沖#3→熱水洗#1、#2、#3、#4→緩沖#4水洗#1、#2、#3→緩沖#5→風切→熱風→緩沖#6→排出


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